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1月9日，中微公司和南昌中微半导体设备有限公司共同拥有的发明专利“一种化学气相沉积装置及其清洁方法”（专利号：ZL201510218357.1），荣获第二十五届中国专利奖银奖。

至此，中微公司已荣获中国专利奖2项金奖、1项银奖和3项优秀奖，标志着中微公司在技术创新和知识产权保护方面所取得的卓越成就。

据了解，中国专利奖是我国专利领域的最高荣誉，由国家知识产权局和世界知识产权组织联合主办，旨在鼓励和表彰专利权人和发明人对技术创新及经济社会发展所作出的突出贡献。

本次获奖的发明专利是中微公司MOCVD设备产品的基础核心专利。该专利从反应腔内流体动力学和气流分布角度提供了一种构思新颖、巧妙的设计，使反应气体排气与反应副产物沉积物的收集、存储相互分离，避免了固体沉积物对排气口的堵塞。该项技术巧妙解决了MOCVD设备领域一直困扰的排气不均匀、工艺良率低、维护频繁和生产效率低等业界难题。

MOCVD设备是宽禁带半导体各种微观器件制造的最关键设备，采用单晶外延生长技术生产LED芯片、功率器件以及其他第三代半导体器件，具有广阔的应用前景。据悉，中微公司的氮化镓基LED生产用MOCVD设备的市场占有率在过去几年内跃居全球第一，市场占有率超过70%。

中微公司表示，这一突破性技术为客户提供了更可靠、更高效的生产解决方案，有力推动了MOCVD设备的技术进步，促进了LED照明与显示产业的新发展。该创新成果进一步巩固了中微公司在MOCVD设备市场的领先地位，也为国家节能减排、降低能耗作出了贡献。

“中微公司连续斩获中国专利奖，彰显了中微公司在研发创新和知识产权管理方面的领先地位。”中微公司董事长兼总经理尹志尧表示：“创新是中微公司发展的核心驱动力，中微公司将始终秉承技术创新、产品差异化和知识产权保护的产品开发原则，强化研发投入，不断突破技术瓶颈，为客户提供更具创新性和卓越品质的产品和服务，为全球半导体产业发展贡献更大的力量。”